期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) at Atmospheric Pressure (AP) of Organosilicon Films for Adhesion Promotion on Ti15V3Cr3Sn3Al and Ti6Al4V
1
作者
Jana Haag
Tobias Mertens
+2 位作者
Max Kolb
Liliana Kotte
Stefan Kaskel
《材料科学与工程(中英文A版)》
2015年第7期274-284,共11页
关键词
等离子体增强化学气相沉积
附着力促进剂
PECVD
大气压力
Ti6Al4V
有机硅膜
AP
碳纤维增强塑料
下载PDF
职称材料
题名
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) at Atmospheric Pressure (AP) of Organosilicon Films for Adhesion Promotion on Ti15V3Cr3Sn3Al and Ti6Al4V
1
作者
Jana Haag
Tobias Mertens
Max Kolb
Liliana Kotte
Stefan Kaskel
机构
Airbus Group Innovations
fraunhofer lws
出处
《材料科学与工程(中英文A版)》
2015年第7期274-284,共11页
关键词
等离子体增强化学气相沉积
附着力促进剂
PECVD
大气压力
Ti6Al4V
有机硅膜
AP
碳纤维增强塑料
Keywords
Atmospheric pressure PECVD (Plasma enhanced chemical vapour deposition), plasma surface treatment, silicon dioxidefilms, titanium alloys, adhesion layers.
分类号
TQ630.7 [化学工程—精细化工]
O484.1 [理学—固体物理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) at Atmospheric Pressure (AP) of Organosilicon Films for Adhesion Promotion on Ti15V3Cr3Sn3Al and Ti6Al4V
Jana Haag
Tobias Mertens
Max Kolb
Liliana Kotte
Stefan Kaskel
《材料科学与工程(中英文A版)》
2015
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部