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X射线光电子能谱技术在高分子材料摩擦化学研究中的应用 被引量:2
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作者 石光 章明秋 +1 位作者 容敏智 Klaus Friedrich 《化学研究》 CAS 2004年第3期76-80,共5页
X射线光电子能谱技术(XPS)是材料表面分析的重要手段,其近年的快速发展促进了表面化学领域研究的深入.高分子及其复合材料在摩擦学性能方面具有普遍的优势,通过XPS对高分子及其复合材料摩擦表面的分析,可以确定摩擦过程的化学变化,并对... X射线光电子能谱技术(XPS)是材料表面分析的重要手段,其近年的快速发展促进了表面化学领域研究的深入.高分子及其复合材料在摩擦学性能方面具有普遍的优势,通过XPS对高分子及其复合材料摩擦表面的分析,可以确定摩擦过程的化学变化,并对改进材料的摩擦学性能起到理论的指导作用.作者主要介绍XPS技术的基本原理,及其在高分子与复合材料摩擦学性能研究中的应用. 展开更多
关键词 X射线光电子能谱技术 高分子材料 摩擦性能 表面化学 技术原理
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