溅射装置及其驱动方法以及使用该装置制造基板的方法

一种溅射装置包括基座以及多个靶器件。基板紧固地固定在基座上。靶器件是可旋转的并且设置为与基板的中心区域和基板中与中心区域相邻的外围区域相对。因为靶器件的数目少，可以减少溅射装置的相应的成本和尺寸。此外，因为靶器件旋转，可以形成更均匀的层并因而可以提高可靠性。

表面处理系统和方法

一种表面处理系统，在其中，将用于一沉积反应的气体注入一沉积室中并且施加电能，以便形成在一个或多个表面处理物体上形成沉积层的沉积反应。在其中，所述的沉积室具有多个平行设置的沉积空间和一个用于将所述的表面处理物体输送到每一个沉积空间或在一沉积反应后将所述的表面处理物体从每一个沉积空间输送来的传输单元。