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超越“纳米级”设计时代
1
作者
Kevin Walsh
《电子设计技术 EDN CHINA》
2008年第6期111-112,共2页
毫无疑问,我们正在跨入“纳米级”设计时代(处于1000nm到1nm级别的设计)的后期阶段。在未来18个月内,我们将开始部署32nm设计流程;而且,从32nm跨越到22nm所存在的障碍已经被攻克。我们将会在65nm和45/40nm之间采用有效率的、以价值为...
毫无疑问,我们正在跨入“纳米级”设计时代(处于1000nm到1nm级别的设计)的后期阶段。在未来18个月内,我们将开始部署32nm设计流程;而且,从32nm跨越到22nm所存在的障碍已经被攻克。我们将会在65nm和45/40nm之间采用有效率的、以价值为基础的设计流程。我们将乐于获得多CPU芯片和虚拟软件支持带来的优越性,凭借着新型设计平台的威力,迎来产品和应用新一轮的蓬勃发展。新型设计平台使设计公司可以充分发挥各种成本/功能/价值工艺节点之所长,满足当前市场上的定制需求。
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关键词
纳米级
计时
设计流程
设计平台
CPU芯片
软件支持
有效率
价值
原文传递
设计质量及其对设计收敛的影响
2
作者
Piyush Sancheti
Sanjay Churiwala
Rob Knoth
《电子设计技术 EDN CHINA》
2010年第10期52-52,54,56,58,59,共5页
在设计早期采取步骤保证质量,可以加快收敛,避免做出失败的硅片。
关键词
RTL
设计收敛
网表分析
原文传递
题名
超越“纳米级”设计时代
1
作者
Kevin Walsh
机构
magma design automation公司
物理验证业务部
出处
《电子设计技术 EDN CHINA》
2008年第6期111-112,共2页
文摘
毫无疑问,我们正在跨入“纳米级”设计时代(处于1000nm到1nm级别的设计)的后期阶段。在未来18个月内,我们将开始部署32nm设计流程;而且,从32nm跨越到22nm所存在的障碍已经被攻克。我们将会在65nm和45/40nm之间采用有效率的、以价值为基础的设计流程。我们将乐于获得多CPU芯片和虚拟软件支持带来的优越性,凭借着新型设计平台的威力,迎来产品和应用新一轮的蓬勃发展。新型设计平台使设计公司可以充分发挥各种成本/功能/价值工艺节点之所长,满足当前市场上的定制需求。
关键词
纳米级
计时
设计流程
设计平台
CPU芯片
软件支持
有效率
价值
分类号
TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学]
TP316 [自动化与计算机技术—计算机软件与理论]
原文传递
题名
设计质量及其对设计收敛的影响
2
作者
Piyush Sancheti
Sanjay Churiwala
Rob Knoth
机构
Atrenta
公司
magma design automation公司
出处
《电子设计技术 EDN CHINA》
2010年第10期52-52,54,56,58,59,共5页
文摘
在设计早期采取步骤保证质量,可以加快收敛,避免做出失败的硅片。
关键词
RTL
设计收敛
网表分析
分类号
TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
超越“纳米级”设计时代
Kevin Walsh
《电子设计技术 EDN CHINA》
2008
0
原文传递
2
设计质量及其对设计收敛的影响
Piyush Sancheti
Sanjay Churiwala
Rob Knoth
《电子设计技术 EDN CHINA》
2010
0
原文传递
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