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3D集成电路进入商业化领域
被引量:
3
1
作者
Philip Garrou
《集成电路应用》
2009年第5期37-40,共4页
在诸如Micron、Toshiba、STMicroelectronics、Intel、Chartered Semiconductor以及TSMC等众多制造商中,使用穿透硅通孔(through—siliconvia)的3D集成技术已经呼之欲出。
关键词
SEMICONDUCTOR
集成电路
3D
商业化
TOSHIBA
MICRON
INTEL
TSMC
下载PDF
职称材料
3D集成电路将如何实现?
被引量:
1
2
作者
Philip Garrou
《集成电路应用》
2009年第3期39-41,48,共4页
三维集成电路的第一代商业应用,CMOS图像传感器和叠层存储器,将在完整的基础设施建立之前就开始。在第一部分,我们将回顾三维集成背后强大的推动因素以及支撑该技术的基础设施的现状,而在第二部分(下期),我们将探索一下三维集成电路技...
三维集成电路的第一代商业应用,CMOS图像传感器和叠层存储器,将在完整的基础设施建立之前就开始。在第一部分,我们将回顾三维集成背后强大的推动因素以及支撑该技术的基础设施的现状,而在第二部分(下期),我们将探索一下三维集成电路技术的商业化。
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关键词
三维集成电路
CMOS图像传感器
集成电路技术
3D
基础设施
商业应用
存储器
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职称材料
题名
3D集成电路进入商业化领域
被引量:
3
1
作者
Philip Garrou
机构
microelectronic
consultants
of
north
carolina
出处
《集成电路应用》
2009年第5期37-40,共4页
文摘
在诸如Micron、Toshiba、STMicroelectronics、Intel、Chartered Semiconductor以及TSMC等众多制造商中,使用穿透硅通孔(through—siliconvia)的3D集成技术已经呼之欲出。
关键词
SEMICONDUCTOR
集成电路
3D
商业化
TOSHIBA
MICRON
INTEL
TSMC
分类号
TN929.53 [电子电信—通信与信息系统]
TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
3D集成电路将如何实现?
被引量:
1
2
作者
Philip Garrou
机构
microelectronic consultants of north carolina research triangle park
出处
《集成电路应用》
2009年第3期39-41,48,共4页
文摘
三维集成电路的第一代商业应用,CMOS图像传感器和叠层存储器,将在完整的基础设施建立之前就开始。在第一部分,我们将回顾三维集成背后强大的推动因素以及支撑该技术的基础设施的现状,而在第二部分(下期),我们将探索一下三维集成电路技术的商业化。
关键词
三维集成电路
CMOS图像传感器
集成电路技术
3D
基础设施
商业应用
存储器
分类号
TP333.7 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
TP212 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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职称材料
题名
作者
出处
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1
3D集成电路进入商业化领域
Philip Garrou
《集成电路应用》
2009
3
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职称材料
2
3D集成电路将如何实现?
Philip Garrou
《集成电路应用》
2009
1
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职称材料
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