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指甲花萃取物对镍从瓦特镀液中电沉积的影响(英文) 被引量:1
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作者 J.Felicita Florence Susai Rajendran K.N.Srinivasan 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2012年第7期1-4,共4页
采用赫尔槽试验、分散能力测定法、扫描电镜、X射线衍射、能谱分析、硬度测量及交流阻抗谱,研究指甲花萃取物(主要成分为2-羟基-1,4-萘醌)对镍从瓦特镀液中电沉积(以低碳钢为基体)的影响。在温度40~50℃和pH4.5~5.0的条件下... 采用赫尔槽试验、分散能力测定法、扫描电镜、X射线衍射、能谱分析、硬度测量及交流阻抗谱,研究指甲花萃取物(主要成分为2-羟基-1,4-萘醌)对镍从瓦特镀液中电沉积(以低碳钢为基体)的影响。在温度40~50℃和pH4.5~5.0的条件下,从含60mL/L指甲花萃取物的瓦特镀镍液中得到的镀层具有良好的耐蚀性和硬度。指甲花萃取物作为瓦特镀镍液的添加剂,极大地提高了镀液的分散能力和电流效率。 展开更多
关键词 低碳钢 瓦特镀镍 添加剂 指甲花萃取物 羟基萘醌 赫尔槽试验 耐蚀性
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