TiO2基超疏水-超亲水图文印版的制备工艺及其胶印应用

本文采用一种新型制备工艺在镀铝版基上涂布超疏水超亲水涂层。制备工艺可分为5部分:①在版基上涂布TiO_2涂层;②采用自组装膜进行表面改性;③采用喷墨技术喷印水性抗UV油墨图文;④自组装膜经光催化分解使涂层表面具有超亲水态;⑤用水清除水性油墨图文。值得注意的是,该工艺无须使用光掩膜即可快速形成具有润湿性的图文印版。制备的超疏水-超亲水印版适用于胶印。

用于亚65纳米光刻的双层抗蚀剂

采用含硅量较高(23wt％)的新型光致抗蚀剂实现了55nm的各种特性,获得了较高的耐腐蚀性能,并降低了线条边缘粗糙度。结果还表明。