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用PECVD在低温衬底上制备类金刚石碳膜
被引量:
4
1
作者
廖显伯
邓勋明
《人工晶体学报》
CSCD
北大核心
2000年第3期220-223,共4页
本文报道用RF PECVD在低温衬底上制备了类金刚石碳(DLC0膜。研究了氢稀释、气体压力和RF功率对薄膜性质的影响。用光透射率、红外吸收谱和小角度X射线衍射谱分析了DLC膜的结构和光学性质。结果表明,这样制备的DL...
本文报道用RF PECVD在低温衬底上制备了类金刚石碳(DLC0膜。研究了氢稀释、气体压力和RF功率对薄膜性质的影响。用光透射率、红外吸收谱和小角度X射线衍射谱分析了DLC膜的结构和光学性质。结果表明,这样制备的DLX膜是无定形态的,包含大量的C-H键,具有良好的透明性。厚度为230nm的DLC膜的4在480nm后地可见光区和近红外区的透过率大于83%,所得出的透明性。
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关键词
类金刚石碳膜
MPCVD
低温
衬底
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职称材料
题名
用PECVD在低温衬底上制备类金刚石碳膜
被引量:
4
1
作者
廖显伯
邓勋明
机构
toledo大学物理天文系
中国科学院半导体研究所凝聚态
物理
中心
出处
《人工晶体学报》
CSCD
北大核心
2000年第3期220-223,共4页
文摘
本文报道用RF PECVD在低温衬底上制备了类金刚石碳(DLC0膜。研究了氢稀释、气体压力和RF功率对薄膜性质的影响。用光透射率、红外吸收谱和小角度X射线衍射谱分析了DLC膜的结构和光学性质。结果表明,这样制备的DLX膜是无定形态的,包含大量的C-H键,具有良好的透明性。厚度为230nm的DLC膜的4在480nm后地可见光区和近红外区的透过率大于83%,所得出的透明性。
关键词
类金刚石碳膜
MPCVD
低温
衬底
分类号
TQ163 [化学工程—高温制品工业]
O484.1
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用PECVD在低温衬底上制备类金刚石碳膜
廖显伯
邓勋明
《人工晶体学报》
CSCD
北大核心
2000
4
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