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未来节点的缺陷减少要求
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作者 darin collins 《电子工业专用设备》 2017年第6期75-77,共3页
随着半导体工业向10nm节点及更高的先进光刻技术的转移,减少缺陷的标准最佳实践将有所不足。污染水平将需要以万亿分之一(ppt)来衡最。这一级别的缺陷减少需要在分析工具、质量控制(QC)和质量工程(QE)方面进行改进。
关键词 缺陷 节点 半导体工业 光刻技术 污染水平 分析工具 质量控制 工程
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将中国的半导体挑战转化为2018年的发展机遇
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作者 Kim Arnold 《电子工业专用设备》 2018年第1期1-1,20,共2页
2018年,世界各地都将展现前所未有的综合经济发展实力。由Alpha One Capital Partners开展的研究表明,在2017年,经济合作与发展组织(OECD)追踪的所有45个国家/地区的经济自2007年以来均实现了首次增长,其中33个国家/地区的经济在2017... 2018年,世界各地都将展现前所未有的综合经济发展实力。由Alpha One Capital Partners开展的研究表明,在2017年,经济合作与发展组织(OECD)追踪的所有45个国家/地区的经济自2007年以来均实现了首次增长,其中33个国家/地区的经济在2017年经历了加速增长。例如,美国国内生产总值从2016年的1.5%加速增长到2017年的2.2%,而且2018年预计将达到2.5%。由于面向全球市场, 展开更多
关键词 解决方案 晶圆制造
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